阿斯麦ASML方面表示，EUV(极紫外光)光刻业务:第一台NXE:3600D已出货给客户。相较于前一代产品，NXE:3600D的生产力提高15%到20%，且套刻精度也提高30%。ASML正增加EUV在存储产业的量产应用，并将计划协助三个DRAM客户实现在未来的制程节点中导入EUV。
阿斯麦ASML方面表示，EUV(极紫外光)光刻业务:第一台NXE:3600D已出货给客户。相较于前一代产品，NXE:3600D的生产力提高15%到20%，且套刻精度也提高30%。ASML正增加EUV在存储产业的量产应用，并将计划协助三个DRAM客户实现在未来的制程节点中导入EUV。
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